Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно - лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).
Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно - лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).
Конструктивные особенности
Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.
Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 °С до 35 °С, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.
Электрическое питание установки должно соответствовать:
- Напряжение, В 380/220;
- Частота, Гц 50.
- Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
- Потребляемая мощность установки должна быть не более 3кВА
Автоматическая система управления вакуумной частью ВН-2000 (-08), возможность визуального контроля электрических параметров блоков на цифровом табло, новая элементная база и возможность использования большего числа дополнительных аксессуаров позволяет значительно облегчить работу пользователя и расширить функциональные возможности установки.
Устройство и принцип работы
Установка выполнена в виде двух стоек - электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.
В электрической стойке размещены:
- блок распределительный;
- блок питания высоковольтный;
- блок трансформаторов;
- блок управления;
- пульт управления;
- блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.
В вакуумной стойке расположена вакуумная система. Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:
- рабочий объем
- система напуска газа в рабочий объем;
- система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.
В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок.
| Установка обеспечивает предельное остаточное давление, Па | 5х10^-4 |
| Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру, не менее, °C | 300 |
| Время нагрева, не более, мин | 30 |
| Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки), кВ | 0,5-4 |
| Предельное отклонение верхнего значения, кВ | 0,3 |
| Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки), не более, кВ | 1 |
| Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока, мА | 300 |
| Максимальный ионный ток устройства ионного травления, мА | 100 |
| Установка обеспечивает откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2х10^-3 Па за время, не более, мин | 15 |
| Ток пучка электронного испарителя, мА | 0-200 |
| Ток накала электронно-лучевого испарителя, А | 2-10 |
| Ток источника резистивного испарителя 1, А | 5-200 |
| Ток источника резистивного испарителя 2, А | 3-50 |
| Габариты стойки аналитической, мм | 470х540х1600 |
| Габариты стойки электрической, мм | 610х630х1670 |
| Масса установки, кг | 350 |
