Вакуумный пост ВН-3000 предназначен для исследовательских работ по распылению металлов, полупроводников и диэлектриков с помощью магнетрона RF и DC, электронно-лучевого испарителя, термического испарения и ионного травления.
Область применения
Приборы электронной техники, материаловедения, микроэлектроника, физика и другие отрасли, а также отработка отдельных технологических операций по напылению.
Вакуумный пост ВН-3000 предназначен для исследовательских работ по распылению металлов, полупроводников и диэлектриков с помощью магнетрона RF и DC, электронно-лучевого испарителя, термического испарения и ионного травления.
Область применения
Приборы электронной техники, материаловедения, микроэлектроника, физика и другие отрасли, а также отработка отдельных технологических операций по напылению.
Конструктивные особенности
Установка выполнена в виде двух стоек – электрической и аналитической. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными жгутами.
В электрической стойке расположены: - блок распределительный;
- блок питания высоковольтный;
- блок питания магнетрона RF;
- блок питания магнетрона DC;
- блок управления;
- блок питания турбомолекулярного насоса; - ноутбук.
В аналитической стойке расположены:
- вакуумная система;
- рабочий объем;
- внутри камерная оснастка;
- турбомолекулярный насос;
- система напуска газа в рабочий объем;
- система водяного охлаждения насоса, магнетрона, ЭЛИ.
Вакуумная система работает в автоматическом режиме и позволяет получить вакуум в закрытом рабочем объеме без вмешательства оператора.
В рабочий объем устанавливаются следующие устройства:
- механизм поворота;
- осветитель;
- устройство ионного травления/очистки (анод);
- устройство осаждения и нагрева;
- электронно-лучевой испаритель;
- магнетрон RF (максимальное количество магнетронов – до 6 шт).
Возможно доукомплектование установки кварцевым измерителем толщины КИТ.
| Установка обеспечивает предельное остаточное давление в рабочем объеме, не более, Па | 2х10^-3 |
| Нагреватель в устройстве осаждения и нагрева обеспечивает температуру в районе подложки, не менее, °C | 300 |
| Время нагрева до температуры 300 °С, не более, мин | 30 |
| Устройство осаждения и нагрева обеспечивает частоту вращения подложки, об/мин | 5-15 |
| Напряжение на выходе блока питания высоковольтного (без нагрузки), кВ | 0-4 |
| Максимальный ток пучка, мА | 200 |
| Максимальный ток блока питания накала катода, А | 20 |
| Мощность блока питания магнетрона RF, Вт | 0-500 |
| Максимальное напряжение блока питания магнетрона DC (без нагрузки), кВ | 1,2 |
| Ток блока питания магнетрона DC, мА | 0-1000 |
| Максимальный ток устройства ионного травления/очистки, мА | 100 |
| Установка обеспечивает откачку рабочего объема от атмосферного давления, Па | 6х10-3 |
| Время откачки рабочего давления, мин | 45 |
| Индикация давления в рабочем объеме, Па | от 1,0х10^5 до 1,0х10^-4 |
| Диаметр мишени, мм | 42-104 |
| Габариты стойки аналитической, мм | 900х610х1620 |
| Габариты стойки электрической, мм | 600х600х2160 |
| Масса, кг | 420 |
