Растровый микроскоп РЭМ-106 предназначен для исследований в материаловедении, нанотехнологиях, физике, химии, геологии, микроэлектронике, биологии, медицине и др. областях с гарантированными метрологическими параметрами измерений линейных размеров субмикронного диапазона и массовой доли элементов в составе исследуемых объектов.
Растровый микроскоп РЭМ-106 предназначен для исследований в материаловедении, нанотехнологиях, физике, химии, геологии, микроэлектронике, биологии, медицине и др. областях с гарантированными метрологическими параметрами измерений линейных размеров субмикронного диапазона и массовой доли элементов в составе исследуемых объектов.
Конструктивные особенности
- быстрое, с гарантированной точностью, измерение линейных размеров объектов;
- определение элементного состава объектов методом рентгеновского микроанализа с гарантированной точностью;
- высокое качество электронно-оптических изображений поверхности проводящих и диэлектрических объектов без специального приготовления в режимах вторичных (ВЭ) и отраженных электронов (ОЭ);
- набор тестовых образцов для калибровки и поверки метрологических параметров, электронно-оптического увеличения, разрешающей способности в режиме ВЭ и ОЭ, калибровки и поверки системы микроанализа; набор эталонов для количественного микроанализа;
- конструкция вакуумной системы, обеспечивающая два рабочих режима в камере объектов: высоковакуумный (классический РЭМ) и низковакуумный регулируемый – для исследования диэлектрических объектов;
- электронно-оптическая система с повышенной защищенностью от внешних электромагнитных полей;
- высокая виброустойчивость;
- объективная линза с разделительными диафрагмами для дифференциальной откачки камеры объектов и электронной пушки;
- управление вакуумной, электронно-оптической, энерго-дисперсионной системами прибора и механизмом перемещения объектов, а также визуализацию и хранение изображений и результатов микроанализа обеспечивается персональным компьютером;
- документирование изображений и спектров высокоразрешающим принтером;
- отображение информации о состоянии прибора на дисплее компьютера.
| Разрешение в режиме высокого вакуума (ВЭ), нм | 4 |
| Разрешение в режиме низкого вакуума (ОЭ), нм | 6 |
| Максимальный размер изображения, пикс | 1280 960 |
| Диапазон регулирования давления в камере, Па | 1 - 270 |
| Диапазон ускоряющих напряжений, кВ | 0,5 - 30 |
| Диапазон регулирования увеличений, х | 15 - 300000 |
| Максимальный размер объекта, мм | 50 |
| Диапазон перемещений объекта: | |
| по координатам X, Y, мм | ±25 |
| по координате Z, мм | 50 |
| наклон,° | -20 до 60 |
| поворот, ° | 360 |
| Время смены образца, мин | 5 |
| Диапазон измерений линейных размеров, µm | 0,2 - 5000 |
| Пределы допускаемой основной погрешности измерений линейных размеров, не более: | |
| в диапазоне от 0,2 µm до 0,8 µm, нм | ±40 |
| в диапазоне свыше 0,8 µm до 5000 µm, % | ±4 |
| Диапазон анализируемых элементов: | |
| в режиме высокого вакуума | 5B - 92U |
| в режиме низкого вакуума | 12Mg - 92U |
| Разрешение ЭДС, eV | 139 |
| Пределы допускаемой относительной погрешности измерений массовой доли элемента в диапазоне от 6С до 92U | |
| в составе массивных образцов, не более: | |
| для элементов с диапазоном массовой доли свыше 10 %, % | ±4 |
| для элементов с диапазоном массовой доли свыше 1 % до 10 %, % | ±20 |
| для элементов с диапазоном массовой доли от 0,1 % до 1 %, % | ±50 |
| Напряжение питания (1 фаза), В | 220 |
| частота, ГЦ | 50/60 |
| Потребляемая мощность, кВА | 2,5 |
| Габаритные размеры (колонна со стендом), мм | 1050х2100х1850 |
| Масса, кг | 685 |
